Размер шрифта:
+
Цвет сайта:
Изображения:

Научная школа ТУСУРа получила грант президента РФ

27 мая 2016

Научная школа ТУСУРа «Плазменная эмиссионная электроника» победила в конкурсе 2016 года на право получения грантов президента России для государственной поддержки ведущих научных школ Российской Федерации. Руководитель школы – Ефим Михайлович Окс, доктор технических наук, профессор, заведующий кафедрой физики ТУСУРа, заведующий лабораторией плазменных источников ИСЭ СО РАН.

Грантовую поддержку получило исследование «Электронно-лучевые и ионно-пучковые методы модификации диэлектрических материалов: полимеров и керамик».

Ефим Михайлович Окс, руководитель научной школы ТУСУРа «Плазменная эмиссионная электроника»

Получение гранта президента по государственной поддержке ведущих научных школ Российской Федерации является знаком признания научного направления «Плазменная эмиссионная электроника», основателем и признанным лидером которого в течение многих лет был мой учитель профессор Юлий Ефимович Крейндель. Вся научная деятельность Юлия Ефимовича была неразрывно связана с ТУСУРом и с институтами РАН: Институтом сильноточной электроники СО РАН и Институтом электрофизики УроРАН. Результатом многолетних фундаментальных и прикладных исследований, выполненных под руководством профессора Крейнделя, а впоследствии продолженных его учениками, является создание уникальных электронных и ионных источников, которые используются для создания научных основ пучковых и плазменных технологий, модификация поверхностных и объёмных свойств различных материалов.

Проект, реализуемый в рамках гранта, будет выполняться сотрудниками совместной научной лаборатории плазменной электроники ТУСУРа и ИСЭ СО РАН. Учёным предстоит создать новые версии уникальных источников электронов, источников ионов металлов и ионов химически активных газов, которые позволят наиболее эффективно воздействовать на диэлектрики. Это откроет возможности для создания принципиально новых технологий обработки диэлектрических материалов.

«Эти технологии востребованы современным приборостроением и машиностроением, где диэлектрики – керамика и полимеры – начинают постепенно вытеснять металлы. Однако широкое применение затруднено сложностями обработки диэлектриков. В частности прямой перенос действующих пучковых и плазменных технологий на диэлектрики затруднён их низкой электропроводностью, которая приводит к неконтролируемой зарядке обрабатываемой поверхности и отражению от неё электронов и ионов. Нам предстоит разработать новую технологию обработки диэлектриков, что в итоге будет иметь значение для перспективного развития отечественной промышленности», – поясняет Ефим Михайлович Окс.

О значимости плазменных технологий для развития промышленности говорит и тот факт, что в марте этого года научный коллектив, возглавляемый Ефимом Михайловичем Оксом, совместно с ООО «НПК «ТЭТа»» приступил к выполнению проекта, направленного на разработку и создание в Томске серийного производства электронно-лучевых комплексов. Проект реализуется в рамках постановления правительства РФ № 218. В результате реализации проекта будет создан прототип электронно-лучевого 3D-принтера для печати металлических изделий и запущено серийное производство электронно-лучевых энергокомплексов на основе отечественных комплектующих.

Справка

Организатором конкурса на право получения грантов президента Российской Федерации для государственной поддержки ведущих научных школ Российской Федерации является Министерство образования и науки Российской Федерации. Выделение грантов осуществляется в соответствии с постановлением правительства РФ от 27 апреля 2005 г. № 260 «О мерах по государственной поддержке молодых российских учёных – кандидатов наук и докторов наук и ведущих научных школ Российской Федерации».

Ведущей научной школой считается сложившийся коллектив исследователей различных возрастных групп и научной квалификации, связанных проведением исследований по общему научному направлению и объединённых совместной научной деятельностью. Указанный коллектив должен осуществлять подготовку научных кадров, иметь в своём составе руководителя, а также молодых (до 35 лет) исследователей.

Похожие материалы по теме